Премаз од силицијум карбида

Ветексемицон СиЦ обложена епитаксијална реакторска комора је основна компонента дизајнирана за захтевне процесе епитаксијалног раста полупроводника. Користећи напредно хемијско таложење паре (ЦВД), овај производ формира густ СиЦ премаз високе чистоће на графитној подлози високе чврстоће, што резултира супериорном стабилношћу при високим температурама и отпорношћу на корозију. Ефикасно се одупире корозивним ефектима реактантних гасова у процесним окружењима високе температуре, значајно потискује контаминацију честицама, обезбеђује конзистентан квалитет епитаксијалног материјала и висок принос и значајно продужава циклус одржавања и животни век реакционе коморе. То је кључни избор за побољшање производне ефикасности и поузданости широкопојасних полупроводника као што су СиЦ и ГаН.

У основном процесу епитаксијалног раста од силицијум карбида, Ветексемицон схвата да перформансе суцептора директно одређују квалитет и ефикасност производње епитаксијалног слоја. Наши ЕПИ пријемници високе чистоће, дизајнирани посебно за СиЦ поље, користе специјалну графитну подлогу и густ ЦВД СиЦ премаз. Са својом супериорном термичком стабилношћу, одличном отпорношћу на корозију и изузетно ниском стопом стварања честица, они осигуравају неупоредиву дебљину и униформност допинга за купце чак иу тешким процесним окружењима на високим температурама. Одабир Ветексемицон-а значи одабрати камен темељац поузданости и перформанси за ваше напредне производне процесе полупроводника.

Ветексемицон СиЦ обложен графитни пријемник за АСМ је основна компонента носача у епитаксијалним процесима полупроводника. Овај производ користи нашу сопствену технологију превлаке од пиролитичког силицијум карбида и прецизне процесе обраде како би се осигурале врхунске перформансе и ултра-дуг животни век у високотемпературним и корозивним процесним окружењима. Дубоко разумемо строге захтеве епитаксијалних процеса у погледу чистоће подлоге, термичке стабилности и конзистентности, и посвећени смо пружању стабилних, поузданих решења која побољшавају укупне перформансе опреме.

Ветексемицон фокусни прстен је дизајниран посебно за захтевну опрему за јеткање полупроводника, посебно апликације за јеткање СиЦ. Постављена око електростатичке стезне главе (ЕСЦ), у непосредној близини плочице, његова примарна функција је да оптимизује дистрибуцију електромагнетног поља унутар реакционе коморе, обезбеђујући равномерно и фокусирано деловање плазме по целој површини плочице. Фокусни прстен високих перформанси значајно побољшава униформност брзине нагризања и смањује ефекте ивица, директно повећавајући принос производа и ефикасност производње.

Ветексемицон Носећа плоча од силицијум карбида за ЛЕД гравирање, посебно дизајнирана за производњу ЛЕД чипова, је основни потрошни материјал у процесу гравирања. Направљен од прецизно синтерованог силицијум карбида високе чистоће, нуди изузетну хемијску отпорност и димензионалну стабилност при високим температурама, ефикасно се одупире корозији јаких киселина, база и плазме. Његова својства ниске контаминације обезбеђују високе приносе за ЛЕД епитаксијалне плочице, док његова издржљивост, која далеко превазилази ону код традиционалних материјала, помаже купцима да смање укупне оперативне трошкове, што га чини поузданим избором за побољшање ефикасности и конзистентности процеса јеткања.

Ветексеми чврсти СиЦ фокусни прстен значајно побољшава униформност нагризања и стабилност процеса прецизном контролом електричног поља и протока ваздуха на ивици плочице. Широко се користи у прецизним процесима јеткања за силицијум, диелектрике и сложене полупроводничке материјале, и кључна је компонента за обезбеђивање приноса масовне производње и дуготрајан поуздан рад опреме.