СиЦ прах високе чистоће

ВеТек Семицондуцтор је пионир у индустрији специјализован за развој, производњу и маркетинг СиЦ праха високе чистоће, који је познат по својој ултра-високој чистоћи, уједначеној дистрибуцији величине честица и одличној кристалној структури. Компанија има тим за истраживање и развој састављен од виших стручњака који стално промовишу технолошке иновације. Са напредном производном технологијом и опремом, чистоћа, величина честица и перформансе СиЦ праха високе чистоће могу се прецизно контролисати. Строга контрола квалитета осигурава да свака серија испуњава најзахтевније индустријске стандарде, пружајући стабилан и поуздан основни материјал за ваше врхунске апликације.

Предности ВеТек Семицондуцтор Хигх Пурити СиЦ праха:

1. Висока чистоћа: садржај СиЦ је 99,9999%, садржај нечистоћа је веома низак, што смањује негативан утицај на перформансе полупроводничких и фотонапонских уређаја и побољшава конзистентност и поузданост производа.

2. Одлична физичка својства: укључујући високу тврдоћу, високу чврстоћу и високу отпорност на хабање, тако да може одржати добру структурну стабилност током обраде и употребе.

3. Висока топлотна проводљивост: може брзо провести топлоту, помоћи у побољшању ефикасности расипања топлоте уређаја, смањити радну температуру, чиме се продужава век трајања уређаја.

4. Низак коефицијент експанзије: промена величине је мала када се температура промени, смањујући пуцање материјала или пад перформанси узрокован термичким ширењем и контракцијом.

5. Добра хемијска стабилност: отпорност на киселину и алкалну корозију, може остати стабилна у сложеном хемијском окружењу.

6. Карактеристике широког појаса: са високом снагом електричног поља и брзином дрифта засићења електрона, погодно за производњу високотемпературних, високог притиска, високе фреквенције и полупроводничких уређаја велике снаге.

7. Висока покретљивост електрона: погодује побољшању радне брзине и ефикасности полупроводничких уређаја.

8. Заштита животне средине: Релативно мало загађење животне средине у процесу производње и коришћења.

СиЦ прах високе чистоће има следеће примене у полупроводничкој и фотонапонској индустрији:

Индустрија полупроводника:

- Материјал супстрата: СиЦ прах високе чистоће се може користити за производњу силицијум карбидног супстрата, који се може користити за производњу високофреквентних, високотемпературних, енергетских уређаја високог притиска и РФ уређаја.

Епитаксијални раст: У процесу производње полупроводника, прах силицијум карбида високе чистоће може се користити као сировина за епитаксијални раст, који се користи за узгој висококвалитетних епитаксијалних слојева силицијум карбида на подлози.

- Материјали за паковање: прах силицијум карбида високе чистоће се може користити за производњу полупроводничких материјала за паковање како би се побољшале перформансе одвођења топлоте и поузданост паковања.

Фотонапонска индустрија:

Кристалне силицијумске ћелије: У процесу производње кристалних силицијумских ћелија, прах силицијум карбида високе чистоће може се користити као извор дифузије за формирање п-н спојева.

- Танкофилна батерија: У процесу производње танкослојне батерије, прах силицијум карбида високе чистоће може се користити као мета за таложење филма силицијум карбида.