ЦВД СиЦ обложен графитни сусцептор за носач плочице
ВЕТЕК ЦВД СиЦ обложен графитни сусцептор за носач плочице је компонента за подршку плочице високих перформанси дизајнирана за процесе епитаксије полупроводника. Производ користи графит високе чистоће као подлогу и обложен је униформним ЦВД слојем силицијум карбида (СиЦ), пружајући одличну термичку стабилност, хемијску отпорност и контролу честица. Као критична компонента графита, он директно подржава плочице унутар реакционе коморе и помаже у одржавању уједначене дистрибуције температуре и стабилних услова епитаксијалног раста.
Материјал високе чистоће:Графитни материјал за полупроводнике и густа структура СиЦ превлаке минимизирају ризике од контаминације и побољшавају поузданост ЦВД СиЦ обложеног графитног пријемника.
Одлична термичка униформност:Оптимизована графитна структура и СиЦ премаз обезбеђују стабилан пренос топлоте и уједначену контролу температуре плочице.
Супериорна хемијска отпорност:Густи СиЦ премаз нуди јаку отпорност на процесне гасове и корозивна окружења.
Дуг радни век:Висока тврдоћа и отпорност на хабање побољшавају издржљивост у условима епитаксије на високим температурама.
Ниска генерација честица:Густа ЦВД СиЦ површина смањује ослобађање честица и побољшава поузданост процеса плочице.
Могућност прилагођеног дизајна:Доступан у различитим величинама, структурама и конфигурацијама у складу са захтевима опреме.
2. Техничке спецификације
Ставка
Типична вредност
Материјал подлоге
Графит високе чистоће
Материјал премаза
ЦВД силицијум карбид (СиЦ)
СиЦ Пурити
≥99,999%
Цоатинг Тхицкнесс
100 ± 20 μм (прилагодљиво)
Уједначеност дебљине премаза
Контролисано унутар 10 μм између серија
Густина ЦВД СиЦ премаза
3,21 г/цм³
Тхермал Цондуцтивити
300 В/м·К
Коефицијент топлотне експанзије
4,5 × 10⁻⁶/К
3. Пријаве
СиЦ процес епитаксије:Графитни сусцептор се користи као носач плочице у опреми за епитаксију СиЦ, подржавајући СиЦ супстрате током епитаксијалног раста на високој температури.
Процес силицијумске епитаксије:Примењује се у силицијумским епитаксијалним реакторима за подржавање плочица и одржавање стабилних термичких услова.
МОЦВД епитаксија:ВЕТЕК графитни пријемници су погодни за МОЦВД, ЛЕД епитаксију, ГаН епитаксију, силицијумску епитаксију и друге процесе производње полупроводника који захтевају одличну термичку униформност и хемијску стабилност.
Опрема за производњу полупроводника:Компатибилан са различитим платформама за епитаксију, укључујући ЛПЕ хоризонталне пећи, Аиктрон, НуФларе и сродну полупроводничку опрему.
4. Зашто изабрати ВЕТЕК?
ВЕТЕК пружа прилагођена решења за графитне сусцепторе обложена ЦВД СиЦ која интегришу пречишћавање графита, прецизну машинску обраду, ЦВД премазивање и могућности инспекције. Наши производи од графита за полупроводнике имају високу чистоћу, уједначену дебљину премаза, одличне термичке перформансе и дуг радни век за захтевне апликације носача плочица.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Користимо колачиће да бисмо вам понудили боље искуство прегледања, анализирали саобраћај на сајту и персонализовали садржај. Коришћењем овог сајта прихватате нашу употребу колачића. Политика приватности