Порозна сиц керамичка плоча

Порозна сиц керамичка плоча је порозна структура керамички материјал направљен одсилицијум карбидкао главна компонента и у комбинацији са посебним процесом синтеровања. Порозност је подесива (обично 30% -70%), дистрибуција величине пора је уједначена, има одличну отпорност на високу температуру, хемијску стабилност и одличну пропусност гаса и широко се користи у производњи полуводича, хемијским словима за паре (ЦВД), високу температуру филтра и осталим пољима.

И за више информација о порозној сиц керамичкој плочи, молимо погледајте овај блог.

Порозни сички керамички дискОдлична физичка својства

● Екстремни отпор високе температуре:

Тачка топљења СИЦ керамике је чак 2700 ° Ц, а и даље може да одржава структурну стабилност изнад 1600 ° Ц, далеко прелази традиционалну алумину керамику (око 2000 ° Ц), посебно погодне за поступке високих температура полуводича.

● Одлично перформансе топлотног управљања:

✔ Висока топлотна проводљивост: Термална проводљивост густе сиц је око 120 В / (м · к). Иако порозна структура благо смањује топлотну проводљивост, и даље је знатно боља од већине керамике и подржава ефикасну расипање топлоте.

✔ Ниски коефицијент термичке експанзије (4,0 × 10⁻⁶ / ° Ц): готово ниједна деформација на високој температури, избегавајући квар уређаја изазван термичком стресом.

● Одлична хемијска стабилност

Отпорност на корозију киселине и алкалија (посебно изванредна у ХФ животној средини), отпорност на оксидацију високог температура, погодна за оштре окружења, попут јеткања и чишћења.

● Изузетна механичка својства

✔ Висока тврдоћа (ММС тврдоћа 9.2, други само дијамантским), јаким отпором на хабање.

✔ Снага савијања може достићи 300-400 МПа, а дизајн структуре пора узима у обзир и лагану и механичку чврстоћу.

● функционализована порозна структура

✔ Висока специфична површина: Побољшајте ефикасност дифузије гаса, погодне као дистрибутивну плочу за реакциону гасу.

✔ Порозница под контролом: Оптимизирајте продор и перформансе течности, као што су једнолична формација филма у процесу ЦВД-а.

Специфична улога у производњи полуводича

● Подршка високотем температури и изолација топлоте

Као плоча за подршку од резина користи се у опреми високог температура (> 1200 ° Ц) као што су пећи за дифузију и жанели пећи како би се избегло контаминација метала.

Порозна структура има и изолационе и подршке функције, смањујући губитак топлоте.

● Јединствена дистрибуција гаса и контрола реакције

У хемијској таложивању паре (ЦВД), као дистрибуција гаса, поре се користе за једнолично транспорт реактивне гасове (као што је Сихин, НХ₃) како би се побољшала униформност танког фолије.

У сувом јеткању, порозна структура оптимизује дистрибуцију у плазми и побољшава тачност јеткања.

● Електростатички Цхуцк (ЕСЦ) језгра компоненте

Порозни СИЦ се користи као електростатичка супстрат Цхуцк, која постиже вакуум адсорпцију путем микропора, тачно исправља вафар и отпорна је на бомбардовање у плазми и има дуг радни век.

● Компоненте отпорне на корозију

Користи се за шупљину облогу влажних опрема и опреме за чишћење, то описује корозију јаким киселинама (као што су Хонсо₄, хно) и снажне алкалије (као што су Кох).

● Контрола топлотне јединице

У појединачним кристалним пећима за раст силицијума (као што је Цлоцхралски метода), као топлотни штит или подршка, његова висока топлотна стабилност користи се за одржавање јединствених термичких поља и смањење оштећења решетке.

● Филтрација и пречишћавање

Порозна структура може пресрести нечистоће честица и користи се у ултра-чистим системима за испоруку гаса / течности како би се осигурала чистоћа процеса.

Предности у односу на традиционалне материјале