Вести

СиЦ има високу тврдоћу, топлотну проводљивост и отпорност на корозију, што га чини идеалним за производњу полупроводника. ЦВД СиЦ премаз се ствара хемијским таложењем паре, обезбеђујући високу топлотну проводљивост, хемијску стабилност и одговарајућу константу решетке за епитаксијални раст. Његова ниска термичка експанзија и висока тврдоћа обезбеђују издржљивост и прецизност, што га чини неопходним у апликацијама као што су носачи плочица, прстенови за предгревање и још много тога. ВеТек Семицондуцтор је специјализован за прилагођене СиЦ премазе за различите потребе индустрије.

Силицијум карбида (СИЦ) је високо прецизни полуводички материјал познат по одличним својствима попут високе температурне отпорности, отпорност на корозију и високу механичку чврстоћу. Има преко 200 кристалних структура, а 3Ц-СИЦ је једини кубни тип, који нуди врхунску природне сфесности и густирање у поређењу с другим врстама. 3Ц-СИЦ се истиче за своју високо електронску покретљивост, чинећи га идеалним за МОСФЕТ-ове у електроничкој електроници. Поред тога, показује велики потенцијал у наноелектроницима, плавим ЛЕД-овима и сензорима.

Дијамант, потенцијални "крајњи полупроводник" четврте генерације, привлачи пажњу у полупроводничким супстратима због своје изузетне тврдоће, топлотне проводљивости и електричних својстава. Иако високи трошкови и изазови у производњи ограничавају његову употребу, ЦВД је пожељна метода. Упркос допингу и изазовима са кристалима велике површине, дијамант обећава.

СИЦ и ГАН су широки опсежни полуводичи са предностима преко силицијума, попут већег напона квара, брже брзине пребацивања и врхунске ефикасности. Сиц је боље за високоположне примене високих снага због веће топлотне проводљивости, док ГАН преписује високофреквентне апликације захваљујући својој врхунској електроничкој мобилности.

Елецтрон Спајање Спајање је високо ефикасно и широко коришћени метод премаза у поређењу са грејањем отпорности, што загрева материјал за испаравање са електронским снопом, узрокујући га испаравање и кондензовати у танком филму.

Вакуумски премаз укључује испаравање филма, вакуумски транспорт и раст танког филма. Према различитим филмским материјалима за испаравање материјала и транспортне процесе, вакуумски премаз може се поделити у две категорије: ПВД и ЦВД.