Веб Мену

Претрага производа

Језик

Вести

Вести

Драго нам је да са вама поделимо резултате нашег рада, новости о компанији, и да вам благовремено обавестимо о развоју и условима за именовање и смењивање особља.
Вести компанијеИндустри Невс
Принципи и технологија физичког таложења за уклањање паре (1/2) - Семицондуктор Ветек24 2024-09

Принципи и технологија физичког таложења за уклањање паре (1/2) - Семицондуктор Ветек

Вакуумски премаз укључује испаравање филма, вакуумски транспорт и раст танког филма. Према различитим филмским материјалима за испаравање материјала и транспортне процесе, вакуумски премаз може се поделити у две категорије: ПВД и ЦВД.
Шта је порозан графит? - Ветек полуводич23 2024-09

Шта је порозан графит? - Ветек полуводич

Овај чланак описује физичке параметре и карактеристике производа Порозног графита Ветек полуводиче, као и њене специфичне примене у полуводичкој обради.
Каква је разлика између сериса за силицијум карбида и танталум карбида?19 2024-09

Каква је разлика између сериса за силицијум карбида и танталум карбида?

Овај чланак анализира карактеристике производа и сценарије апликације ТАНТАЛУМ ЦАРБИДЕ ЦОАТИНГ и СИЛИЦОН ЦАРБИДЕ ЦОАЛИДЕ из више перспектива.
Комплетно објашњење процеса производње чипова (2/2): Од вафла до паковања и тестирања18 2024-09

Комплетно објашњење процеса производње чипова (2/2): Од вафла до паковања и тестирања

Танки талог филма је од виталног значаја у производњи чипова, стварајући микро уређаје по депоновању филмова испод 1 микрона дебљине преко ЦВД, АЛД-а или ПВД-а. Ови процеси граде полуводичке компоненте путем наизменичних проводљивих и изолационих филмова.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept