ЦВД ТаЦ Цоатед Сусцептор

Дефиниција и састав производа

ВЕТЕК ЦВД ТаЦ Цоатед Сусцептор је врхунска компонента носача плочице која се посебно користи за епитаксијалну обраду полупроводника треће генерације (СиЦ, ГаН, АлН). Овај производ комбинује физичке предности два материјала високих перформанси:

Графитна подлога високе чистоће: Користи процес изостатичког пресовања како би се осигурало да подлога поседује супериорну структурну чврстоћу, високу густину и стабилност термичке обраде.

ЦВД ТаЦ премаз: Густи заштитни слој тантал-карбида (ТаЦ) без стреса се узгаја на површини графита кроз напредну технологију хемијског таложења паром (ЦВД).

Основне техничке предности: Изванредна прилагодљивост екстремном окружењу

У МОЦВД процесу, ТаЦ премаз није само физички заштитни слој већ и језгро за осигурање поновљивости процеса:

Толеранција на екстремно високе температуре: ТаЦ има тачку топљења чак 3880°Ц, одржавајући одличну стабилност облика чак и у епитаксијалним процесима на ултра високим температурама изнад 1600°Ц.

Одлична отпорност на корозију: У срединама са јаком редукцијом које садрже НХ3(амонијак) или Х2(водоник), стопа корозије ТаЦ је изузетно ниска, ефикасно спречава губитак подлоге и таложење нечистоћа.

Гаранција ултра-високе чистоће: Чистоћа премаза је чак 99,9995%. Његова густа структура потпуно затвара графитне микропоре, осигуравајући да епитаксијални филм достигне изузетно ниске нивое нечистоћа.

Прецизна дистрибуција топлотног поља: ВЕТЕК-ова оптимизована технологија контроле премаза обезбеђује да се разлика у температури површине пријемника контролише унутар ±2°Ц, значајно побољшавајући дебљину и конзистентност таласне дужине епитаксијалног слоја плочице.

Тецхницал Параметерс

Тантал карбид (ТаЦ) премаз на микроскопском попречном пресеку:

Основна поља апликације

СиЦ (силицијум карбид) Епитаксијални раст: Подржава производњу СиЦ уређаја за напајање од 6 инча, 8 инча и веће величине.

Уређаји на бази ГаН (галијум нитрида).: Користи се у МОЦВД процесима за ЛЕД диоде високе осветљености, ХЕМТ уређаје за напајање и РФ чипове.

АлН (алуминијум нитрид) и УВЦ раст: Пружа решења за носаче на екстремно високим температурама (1400°Ц+) за материјале са ултра широким појасом, као што су Дееп УВ ЛЕД.

Прилагођена подршка за истраживање: Прилагођава се потребама прецизног прилагођавања истраживачких института за различите неправилне делове и дискове са више отвора.

Компатибилни модели и услуге прилагођавања

ВЕТЕК поседује прецизне механичке могућности обраде и премазивања, савршено се прилагођава глобалној МОЦВД опреми:

АИКСТРОН: Подржава различите планетарне ротационе дискове и базе.

Веецо: Подржава К465и, Пропел и друге серије вертикалних носача.

АМЕЦ и други: Пружа потпуно компатибилне резервне делове или решења за надоградњу.