Кварцни носач вафла високе чистоће

1. Кључне карактеристике и предности

• Дехидроксиловани топљени кварц ултра високе чистоће (СиО₂ ≥ 99,999%) са металним нечистоћама контролисаним на нивоима ппб—минимизирајући контаминацију плочице

• Дуготрајна радна температура до 1100 °Ц; краткотрајна вршна отпорност до 1200 °Ц

• Одлична отпорност на топлотни удар и стабилност димензија при честим променама температуре

• Јака хемијска инертност против оксидирајућих процесних гасова и уобичајених хемикалија у влажним процесима (ХФ, Х₂О₂, киселине/алкалије)

• Висока равна и прецизно брушена површина са заобљеним ивицама за равномерну подршку плочице и смањено оштећење ивица

• Ниско вакуумско испуштање гаса и ниска површинска адсорпција—погодно за прецизне вакуумске процесе

• Потпуно прилагодљиве структуре: чврсти носачи, перфорирани/вентилирани дизајни, степенасте функције лоцирања, рупе за позиционирање, носачи са више тачака и задебљани дизајни против деформације за плочице од 2–12 инча

2. Типичне апликације

Ови носачи се користе свуда где је обландама потребна чиста, димензионално стабилна подршка под повишеном температуром или агресивном хемијом:

• Оптерећење пећи за дифузију и жарење

• Подршка процеса раста ПЕЦВД и ЛПЦВД филма

• Вакумска комора и алати за високотемпературни процес

• Носачи станица за сушење и мокро чишћење након нагризања

• Термичка обрада СиЦ и ГаН енергетских уређаја

• Оптоелектронско руковање супстратом и лабораторијски термички алати

3. Кључни технички параметри

• Основни материјал: полупроводнички дехидроксиловани топљени кварц, СиО₂ ≥ 99,999%

• Компатибилне величине плочице: 2, 4, 6, 8 и 12 инча (Си, СиЦ, ГаН, сафир)

• Препоручени континуирани температурни опсег: −20 °Ц до 1100 °Ц; краткорочни максимум до приближно 1200 °Ц

• Рута производње: једноделно обликовање, прецизно брушење површине, заокруживање ивица, жарење за ублажавање напрезања и ултра чисто завршно чишћење

• Доступне конфигурације: чврсте, са вентилацијом/перфорацијом, степенасто лоцирање, са узорком рупа и потпуно прилагођене геометрије

• Фокус на перформансама: висока чистоћа, термичка стабилност, отпорност на корозију, равност површине, ниско испуштање гасова и дуготрајно задржавање димензија

• Опсег прилагођавања: спољне димензије, дебљина, геометрија носача, распоред рупа и посебне карактеристике на основу цртежа купаца

4. Зашто одабрати ВеТек носаче кварцних плочица високе чистоће?

Као професионални произвођач полупроводничких кварцних компоненти, ВеТек Семицондуцтор нуди:

• Кварцни носачи плочица високе чистоће дизајнирани за термичка, вакуумска и влажна окружења

• Строга контрола чистоће, равност површине и чистоћа погодна за напредну производњу полупроводника

• Потпуно прилагођавање и ОЕМ компатибилни дизајн за алате за пећи, коморе и процесне станице

• Комплементарни полупроводнички кварцни производи укључујући цеви за пећи, чамце за плочице, лонце и друге компоненте процеса

Наши носачи кварцних плочица високе чистоће помажу у одржавању уједначеног топлотног контакта, смањењу контаминације честицама и металом и продужавају век алата под сталним високотемпературним и корозивним процесним условима — подржавајући већи принос и ниже трошкове поседовања у производњи полупроводника.