ВеТек Семицондуцтор испоручује висококвалитетне монокристалне плочице и подлоге од алуминијум нитрида (АлН) за следећу генерацију полупроводничких уређаја са ултра-широким појасом. Са ултра-широким појасом од приближно 6,2 еВ, изванредном топлотном проводљивошћу, изузетном електричном изолацијом и одличним поклапањем решетке и термичке експанзије са ГаН, АлН плочице су идеалне за РФ уређаје велике снаге, електронику високог напона и оптоелектронику дубоког ултраљубичастог зрачења (ДУВ).
•Ултра широки појас ≈ 6,2 еВ — највећи међу главним полупроводничким материјалима
•Висока топлотна проводљивост ≈ 320 В/м·К за ефикасно одвођење топлоте
•Одлична електрична изолација (>10¹³ Ω·цм) и велико поље квара (12–15 МВ/цм)
•Добра решетка и термичка експанзија се поклапају са ГаН — идеално за ГаН-он-АлН хетероструктуре
•Опције ниске густине дислокација са чврстом контролом љуљачке криве ХР-КСРД
•Ал-фаце ЦМП (Ра ≤ 0,5 нм) и Н-фаце МП за епи спремне површине
•Више величина и степена квалитета (П / Р / Д) који одговарају захтевима производње и истраживања
2. Типичне примене
•РФ уређаји велике снаге за радарске и 6Г комуникације
•Високонапонска енергетска електроника за мрежу, дата центре и електрична возила
•Дубоко ултраљубичасто (УВЦ) ЛЕД и ласерске диоде
•ГаН-он-АлН епитаксијални раст и напредни уређаји за хетероструктуру
•Високотемпературне, високофреквентне и полупроводничке компоненте у тешким условима
3. Доступне величине и оцене квалитета
ВеТек нуди АлН облатне у следећим стандардним форматима. Прилагођене величине и спецификације се могу разговарати на захтев.
•10 × 10 мм квадратне подлоге
•1-инчне (25,4 мм) плочице
•2-инчне (50,8 мм) плочице
Оцене квалитета: П-граде (производ), Р-граде (истраживања), Д-граде (експерименталне), разликују се углавном по ХР-КСРД кривуљи љуљања ФВХМ и укупним квалитетом кристала.
4. Кључне техничке спецификације
Уобичајени параметри за различите величине (типичне вредности; зависе од степена где је наведено):
Параметар
П-Граде
Р-Граде
Д-Граде
Оријентација
(0001) ± 0,5°
Дебљина
450 μм ± 25 μм
ХР-КСРД ФВХМ (002)
≤ 100 лучних секунди
≤ 200 лучних секунди
≤ 300 лучних секунди
ХР-КСРД ФВХМ (102)
≤ 80 лучних секунди
≤ 150 лучних секунди
≤ 250 лучних секунди
Сурфаце Полисх
Ал-фаце ЦМП, Н-фаце МП
Храпавост површине Ра
Ал ≤ 0,5 нм; Н ≤ 1,2 μм
Огреботине / ломљење (голим оком)
Ниједан
Едге Екцлусион
1 мм
Паковање
Кутија са једном вафлом
Геометријске толеранције специфичне за величину:
• 10×10 мм: Бочна дужина 10 мм ± 0,5 мм; ТТВ ≤ 15 μм; Лук ≤ 15 μм
• 1-инчни: пречник 25,4 мм ± 0,5 мм; Корисна површина ≥ 90%; ТТВ ≤ 20 μм; Лук ≤ 20 μм; Примарна равна (10-10) ± 5°, дужина 8 мм ± 1 мм
• 2 инча: пречник 50,8 мм ± 0,5 мм; Корисна површина ≥ 90%; ТТВ ≤ 30 μм; Лук ≤ 30 μм; Примарна равна дужина 16 мм ± 2 мм
5. Зашто одабрати ВеТек АлН Ваферс?
Као специјализовани добављач напредних полупроводничких материјала и компоненти, ВеТек Семицондуцтор обезбеђује:
•Висококвалитетне АлН монокристалне плочице са контролисаним кристалним квалитетом и површинама спремним за епилацију
•Више опција величине и степена за подршку и производњи уређаја и истраживачким програмима
•Комплементарна решења за плочице и супстрате у оквиру ВеТек портфеља полупроводничких материјала
•Техничка подршка за избор материјала и усклађивање процеса
Наше АлН плочице помажу купцима да убрзају развој РФ, високонапонских и дубоких УВ оптоелектронских уређаја који захтевају јединствену комбинацију ултра широког појаса, високе топлотне проводљивости и ГаН компатибилности коју нуди алуминијум нитрид.
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Користимо колачиће да бисмо вам понудили боље искуство прегледања, анализирали саобраћај на сајту и персонализовали садржај. Коришћењем овог сајта прихватате нашу употребу колачића. Политика приватности