Куартз дистрибутивна плоча од гаса

Куартз дистрибутивне плоче, такође познате као кварцни туш кабине, су критичне компоненте у полуводичкој изради. Користећи изузетну чистоћу, отпорност на високу температуру и отпорност на корозију кварца, ове плоче осигуравају јединствени и стабилни проток процесних гасова на површину резина. Ова прецизна испорука је од суштинског значаја за одржавање квалитета и уједначености депонованих филмова или јетљених функција.

Кључне карактеристике високо-чистоће фузионисане кварц

● Материјал: 99,99% Хигх-Херитх Фусед Куартз

● Отпорност на високу температуру: Претпостави температуре изнад 1000 ℃

● Отпорност на корозију: Одлична трајност против процеса гасова и у плазми окружења

● Прецизни ток гаса: Униформна дистрибуција микро отвора за оптималну испоруку гаса и униформност таложења

● Прилагодљив дизајн: Величина, узорак рупа и функција монтаже могу се прилагодити специфичним моделима опреме

Основне улоге у производњи полуводича

1. физички таложење паре (ПВД) и хемијска таложење паре (ЦВД)

Улога: У ПВД и ЦВД процесима, дистрибуција гаса прецизно усмјерава реактивне гасове (нпр. Силане, амонијак, кисеоник) или прекурсоре на резину да формирају жељени танки филм.

Специфична употреба:

● Контрола униформности: Та прецизно пројектоване микро-рупе осигуравају да су проток и концентрација гаса уједначене преко целокупне површине вафла. Ово је од виталног значаја за депоновање филмова са доследном дебљином и перформансама.

● Спречавање контаминације: Висока чистоћа кварца спречава да плоча реагује са процесним гасовима или ослобађањем нечистоћа. Ово одржава чистоћу филма и спречава оштећења на површини од линије.

2 Плазма побољшана хемијска параловање паре (ПЕЦВД)

Улога: У ПЕЦВД-у, кварцни туш кабина не само пружа реактивне гасове, већ и функционише као електрода за производњу плазме.

Специфична употреба:

● Плазма паљење: Туш кабина је обично повезана на извор напајања радија-фреквенције (РФ) да би се створила у плазми. Високоенергетске честице у плазми промовишу распадање гасовитих реактаната, омогућавајући таложење филма на нижим температурама.

● Термичка стабилност: Кварц показује одличну топлотну стабилност, омогућавајући му да издржи у плазми у плазми високог температуре. Ово помаже у одржавању јединствене температуре у процесној комори, даљњи обезбеђивање квалитета и доследности филма.

3. суво јеткање

Улога: У сувом јеткању, дистрибуција гаса уводи реактивне гасове (нпр. Флуорокарбони, хлор) у ЕТЦХ већу.

Специфична употреба:

● ЕТЦХНОДНОСТИ: Плоча осигурава јединствени проток и концентрацију етцх гасова, што гарантује доследну дубину етцх-а и профила целокупне плоче. Ово је пресудно за постизање прецизних образаца потребних за напредне полуводичке уређаје.

● Отпорност на корозију: Снажна корозивна својства гасова етцх-а захтевају издржљиви материјал. Кварцни високи отпорност на корозију продужава век туша и смањује ризик од процеса прекида.

4. Резање ретка

Улога: У специфичним процесима за чишћење плоча, кварцни дистрибутивни плоч гаса користи се за испоруку гасова за чишћење (нпр. Озоне, амонијак) равномерно до површине резања како би се уклонили остаци или контаминанти.

Специфична употреба:

● Доследно чишћење: Плоча осигурава да чишћење гасова достижу сваки део резета, омогућавајући детаљан и уједначен процес чишћења.

● Хемијска компатибилност: Компатибилност кварца са широким спектром хемијских средстава за чишћење спречава реакције и одржава чистоћу и ефикасност процеса чишћења.